An Empirical Investigation on the Effect of Oxygen Vacancy in ZrO2 Thin Film on the Frequency-Dependent Capacitance Degradation in the Metal–Insulator–Metal Capacitor

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标题	An Empirical Investigation on the Effect of Oxygen Vacancy in ZrO2 Thin Film on the Frequency-Dependent Capacitance Degradation in the Metal–Insulator–Metal Capacitor ZrO2薄膜中氧空位对金属-绝缘体-金属电容器中频率相关电容退化影响的实验研究相关领域电容电容器材料科学降级（电信）绝缘体（电）光电子学金属绝缘体金属电解电容器氧气金属频率依赖性空位缺陷电压电极电气工程凝聚态物理化学冶金核磁共振物理有机化学物理化学工程类
网址	https://doi.org/10.1109/ted.2021.3110837 AI链接 univ-grenoble-alpes.frdoi.org
DOI	10.1109/ted.2021.3110837 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Dong Hee Han; Seung‐Woo Lee; Ji Hyeon Hwang; Youngjin Kim; M. Bonvalot; et al 出版日期：2021-09-14
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