| 标题 |
 Investigation of the Depth and Rate of Ion Etching of QWIP Structures QWIP结构离子刻蚀深度和速率的研究
相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
分子束外延
量子阱
图层（电子）
光电子学
外延
反应离子刻蚀
离子
光学
化学
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物理
激光器
有机化学
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期刊：Journal of Communications Technology and Electronics 作者：A. V. Trukhachev; M. V. Sednev; N. S. Trukhacheva; K. O. Boltar; A. I. Dirochka 出版日期：2021-03-01 |
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