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  Substrate Biasing during Plasma-Assisted ALD for Crystalline Phase-Control of TiO2 Thin Films TiO2薄膜晶体相控制等离子体辅助原子层沉积过程中的基片偏置
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期刊：Electrochemical and Solid-State Letters 作者：Harald B. Profijt; M. C. M. van de Sanden; W. M. M. Kessels 出版日期：2011-01-01 |
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