Modeling and analysis of SiO2 deposition during high-purity fused silica glass synthesis by SiCl4 chemical vapor deposition

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标题	Modeling and analysis of SiO2 deposition during high-purity fused silica glass synthesis by SiCl4 chemical vapor deposition
网址	https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2019.02.147
DOI	10.1016/j.ceramint.2019.02.147 doi
其它	期刊：Ceramics International 作者：Yaosong Huang 出版日期：2019-02-21
求助人	迷路的游侠在 2026-08-20 16:00:10 发布自北京，悬赏 10 积分
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