Cr and CrOx etching using SF6 and O2 plasma

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标题	Cr and CrOx etching using SF6 and O2 plasma
网址	https://doi.org/10.1116/6.0000922
DOI	10.1116/6.0000922 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Vy Thi Hoang Nguyen; Flemming Jensen; Jörg Hübner; Evgeniy Shkondin; Roy Cork; et al 出版日期：2021-04-07
求助人	清风在 2026-08-07 13:53:36 发布自浙江，悬赏 10 积分
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