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A novel "high-transmission" phase shift mask for ArF lithographic performance enhancement
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DOI
10.1117/12.2572021 doi
其它 期刊:Photomask Technology 2020
作者:Naoto Yonemaru; Kazuaki Matsui; Yosuke Kojima; Tatsuya Nagatomo; Mitsuharu Yamana
出版日期:2021-08-19
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南宫书双 在 2026-06-01 13:53:46 发布自浙江,悬赏 20 积分
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