Capability of plasma-enhanced chemical-vapor-deposited SiO2 films as diffusion barriers on InGaAs

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标题	Capability of plasma-enhanced chemical-vapor-deposited SiO2 films as diffusion barriers on InGaAs
网址	http://dx.doi.org/10.1063/1.357764
DOI	10.1063/1.357764 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：P. Ambrée; K. Wandel 出版日期：1994-07-15
求助人	n301 在 2026-10-16 15:23:43 发布自中国香港，悬赏 10 积分
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