Stochastic simulation of pattern formation for chemically amplified resist in electron beam lithography

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标题	Stochastic simulation of pattern formation for chemically amplified resist in electron beam lithography
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.7567/1347-4065/ab0acd/...
DOI	10.7567/1347-4065/ab0acd doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：M. Koyama; M. Shirai; H. Kawata; Y. Hirai; M. Yasuda 出版日期：2019-05-06
求助人	Guan 在 2026-08-19 16:34:59 发布自广东，悬赏 30 积分
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