Etch proximity correction for curvilinear layout: curve sampling with ML etch bias model

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标题	Etch proximity correction for curvilinear layout: curve sampling with ML etch bias model 相关领域曲线坐标采样（信号处理）材料科学曲线拟合光学数学分析数学几何学导纳花键（机械）
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3089780
DOI	10.1117/12.3089780 doi
其它	期刊：DTCO and Computational Patterning V 作者：Shilong Zhang; Dakyeong Seo; Seohyun Kim; Youngsoo Shin 出版日期：2026-04-10
求助人	iris 在 2026-07-10 09:28:04 发布自北京，悬赏 20 积分
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