Improvement of the 2D dynamic CA method for photoresist etching simulation and its application to deep UV lithography simulations of SU-8 photoresists

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标题	Improvement of the 2D dynamic CA method for photoresist etching simulation and its application to deep UV lithography simulations of SU-8 photoresists
网址	https://doi.org/10.1088/0960-1317/17/12/021
DOI	10.1088/0960-1317/17/12/021 doi
其它	期刊：Journal of Micromechanics and Microengineering 作者：Zai-Fa Zhou; Qing-An Huang; Wei-Hua Li; Ming Feng; Wei Lu; Zhen Zhu 出版日期：2007-11-15
求助人	张LN 在 2026-03-16 19:15:00 发布自江苏，悬赏 10 积分
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