Nanoscale Etching of La0.7Sr0.3MnO3 Without Etch Lag Using Chlorine Based Inductively Coupled Plasma

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标题	Nanoscale Etching of La0.7Sr0.3MnO3 Without Etch Lag Using Chlorine Based Inductively Coupled Plasma 相关领域材料科学反应离子刻蚀自旋电子学蚀刻（微加工）感应耦合等离子体光电子学干法蚀刻磁电阻纳米尺度等离子体刻蚀纳米技术等离子体铁磁性凝聚态物理磁场量子力学物理图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1007/s13391-022-00404-1
DOI	10.1007/s13391-022-00404-1 doi
其它	期刊：Electronic Materials Letters 作者：Nimphy Sarkar; Jaewoo Han; Daryll Joseph Chavez Dalayoan; Satyabrat Behera; Sang-Hyuk Lee; et al 出版日期：2023-01-07
求助人	KAKA 在 2026-01-08 17:28:44 发布自河北，悬赏 10 积分
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