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标题
Low temperature source/drain epitaxy and functional silicides: essentials for ultimate contact scaling
低温源极/漏极外延和功能硅化物：最终接触结垢的要点
相关领域
锡 缩放比例 金属 兴奋剂 材料科学 外延 分析化学（期刊） 物理 算法 光电子学 计算机科学 纳米技术 化学 数学 冶金 有机化学 几何学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1109/iedm45625.2022.10019501
DOI
10.1109/iedm45625.2022.10019501 doi
其它 期刊：2022 International Electron Devices Meeting (IEDM)
作者：Clément Porret; J.-L. Everaert; Marc Schaekers; Lars‐Åke Ragnarsson; Andriy Hikavyy; et al
出版日期：2022-12-03
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AARON 在 2025-08-28 10:43:44 发布自广东，悬赏 10 积分
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