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Exploring manufacturability of novel 2D channel materials: 300 mm wafer-scale 2D NMOS & PMOS using MoS2, WS2, & WSe2 |
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期刊:International Electron Devices Meeting 作者:C. Dorow; T. Schram; Q. Smets; K. O'Brien; K. Maxey; et al 出版日期:2023-12-09 |
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