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Approaching Angstrom-Scale Resolution in Lithography Using Low-Molecular-Mass Resists ( |
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期刊:ACS Nano 作者:Mohammad S. M. Saifullah; Anil Rajak; Kevin Hofhuis; Nikhil Tiwale; Zackaria Mahfoud; et al 出版日期:2024-08-20 |
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