Halogen and Halomethyl Substitution Effects in Anthracene-Based Extreme Ultraviolet Resist Models: A Theoretical Study of Dissociation Mechanisms and Optoelectronic Properties

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标题	Halogen and Halomethyl Substitution Effects in Anthracene-Based Extreme Ultraviolet Resist Models: A Theoretical Study of Dissociation Mechanisms and Optoelectronic Properties
网址	http://dx.doi.org/10.1021/acs.jpca.5c08102
DOI	10.1021/acs.jpca.5c08102 doi
其它	期刊：The Journal of Physical Chemistry A 作者：Vishal Gupta; Rohit Anand; In Kee Park; Florian Brette; Geunsik Lee 出版日期：2026-05-07
求助人	樊珩在 2026-11-06 23:38:00 发布自上海，悬赏 10 积分
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