Interplay between oxygen defects and dopants: effect on structure and performance of HfO2-based ferroelectrics

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标题	Interplay between oxygen defects and dopants: effect on structure and performance of HfO2-based ferroelectrics 氧缺陷与掺杂剂的相互作用：对HfO2基铁电体结构和性能的影响相关领域掺杂剂材料科学可靠性（半导体）铁电性半导体氧气相（物质）兴奋剂光电子学薄膜工程物理纳米技术化学热力学工程类物理电介质有机化学功率（物理）
网址	https://doi.org/10.1039/d1qi00167a
DOI	10.1039/d1qi00167a doi
其它	期刊：Inorganic chemistry frontiers 作者：Monica Materano; Patrick D. Lomenzo; Alfred Kersch; Min Hyuk Park; Thomas Mikolajick; et al 出版日期：2021-01-01
求助人	12 在 2025-11-24 08:51:22 发布自江苏，悬赏 10 积分
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