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标题
Improved positive bias temperature instability of n-type vertical C-shaped-channel nanosheet FET by forming gas annealing
相关领域
纳米片 不稳定性 退火(玻璃) 材料科学 形成气体 光电子学 纳米技术 复合材料 机械 物理
网址
DOI
10.1016/j.mee.2025.112357 doi
其它 期刊:Microelectronic Engineering
作者:Yunfei Shi; Songyi Jiang; Hong Yang; Yongkui Zhang; Longda Zhou; et al
出版日期:2025-05-16
求助人
清研 在 2025-11-24 20:09:56 发布自北京,悬赏 10 积分
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