Activation mechanism of ruthenium etching by Cl-based radicals in O2/Cl2 plasma

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标题	Activation mechanism of ruthenium etching by Cl-based radicals in O2/Cl2 plasma
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/acceac
DOI	10.35848/1347-4065/acceac doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Masaya Imai; Miyako Matsui; Ryoko Sugano; Takashi Shiota; Ko-ichi Takasaki; et al 出版日期：2023
求助人	舒心的短靴在 2026-05-12 17:17:33 发布自山东，悬赏 10 积分
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