| 标题 |
Investigation of the plasma treatment in a multistep TiN MOCVD process |
| 网址 | |
| DOI |
10.1016/s0167-9317(99)00324-x
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| 其它 |
期刊:Microelectronic Engineering 作者:S. Riedel; S.E. Schulz; T. Gessner 出版日期:2000-01-01 |
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(2025-6-4)