A Nanoimprint Lithography Hybrid Photoresist Based on the Thiol–Ene System

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标题	A Nanoimprint Lithography Hybrid Photoresist Based on the Thiol–Ene System
网址	https://advanced.onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/adf...
DOI	10.1002/adfm.201100692 doi
其它	期刊：Advanced Functional Materials 作者：Hong Lin; Xia Wan; Xuesong Jiang; Qingkang Wang; Jie Yin 出版日期：2011-06-03
求助人	顾右在 2026-08-09 16:51:13 发布自广东，悬赏 10 积分
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