Modification of Diazoquinone–Novolac Photoresist Films beyond the Region of Implantation of B+ Ions

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标题	Modification of Diazoquinone–Novolac Photoresist Films beyond the Region of Implantation of B+ Ions 重氮醌-酚醛光致抗蚀剂薄膜在B+离子注入区之外的改性相关领域化学离子光刻胶分子通量硼激进的衰减全反射光化学辐照离子注入分析化学（期刊）红外光谱学图层（电子）有机化学物理核物理学
网址	https://doi.org/10.1134/s0018143920050045
DOI	10.1134/s0018143920050045 doi
其它	期刊：High Energy Chemistry 作者：С. Д. Бринкевич; E. V. Grinyuk; Д. И. Бринкевич; В. С. Просолович 出版日期：2020-09-01
求助人	崽崽在 2025-10-27 05:12:53 发布自江西，悬赏 10 积分
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