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标题
Structural and electrical investigations of a-Si:H(i) and a-Si:H(n + ) stacked layers for improving the interface and passivation qualities
改善界面和钝化质量的a-Si：H（i）和a-Si：H（n+）堆叠层的结构和电学研究
相关领域
钝化 接口（物质） 材料科学 硅 光电子学 纳米技术 工程物理 图层（电子） 物理 复合材料 毛细管数 毛细管作用
网址
https://doi.org/10.1117/1.jpe.7.035503
DOI
10.1117/1.jpe.7.035503 doi
其它 期刊：Journal of Photonics for Energy
作者：Yu Lin Hsieh; Chien-Chieh Lee; Chia Cheng Lu; Yiin‐Kuen Fuh; Jenq Yang Chang; et al
出版日期：2017-07-01
求助人
荒野小蚂蚁 在 2025-10-11 07:57:08 发布自河南，悬赏 20 积分
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