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 Controllable nitrogen doping of MOCVD Ga2O3 using NH3 利用NH3对MOCVD Ga2O3进行可控氮掺杂
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Fikadu Alema; Takeki Itoh; William N. Brand; A. Osinsky; James S. Speck 出版日期：2023-06-19 |
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