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Process optimization for shallow trench isolation etch using computational models
基于计算模型的浅沟槽隔离刻蚀工艺优化
相关领域
薄脆饼
等离子体刻蚀
浅沟隔离
沟槽
插值(计算机图形学)
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材料科学
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期刊:Journal of vacuum science & technology. A. Vacuum, surfaces, and films 作者:Shuo Huang; Prem Panneerchelvam; Chad M. Huard; Shyam Sridhar; Peter L. G. Ventzek; et al 出版日期:2023-08-04 |
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