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 Tuning of resist slope with hard-baking parameters and release methods of extra hard photoresist for RF MEMS switches RF MEMS开关用硬烘烤参数调节抗蚀剂斜率及特硬光刻胶释放方法
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期刊：Sensors and Actuators A Physical 作者：Shimul C. Saha; Håkon Sagberg; Erik Poppe; Geir Uri Jensen; Tor A. Fjeldly; et al 出版日期：2007-11-14 |
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