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标题
Tuning of resist slope with hard-baking parameters and release methods of extra hard photoresist for RF MEMS switches
RF MEMS开关用硬烘烤参数调节抗蚀剂斜率及特硬光刻胶释放方法
相关领域
抵抗 光刻胶 材料科学 微电子机械系统 溶解 纳米技术 平版印刷术 灰化 光电子学 光刻 复合材料 图层（电子） 化学 量子力学 物理 物理化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.sna.2007.10.067
DOI
10.1016/j.sna.2007.10.067 doi
其它 期刊：Sensors and Actuators A Physical
作者：Shimul C. Saha; Håkon Sagberg; Erik Poppe; Geir Uri Jensen; Tor A. Fjeldly; et al
出版日期：2007-11-14
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终成院士 在 2025-12-31 14:00:52 发布自上海，悬赏 10 积分
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