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标题
Material removal rate model for chemical–mechanical polishing of single-crystal SiC substrates using agglomerated diamond abrasive
相关领域
磨料 抛光 化学机械平面化 材料科学 钻石 泥浆 复合材料 单晶 Crystal(编程语言) 基质(水族馆) 冶金 结晶学 化学 地质学 程序设计语言 海洋学 计算机科学
网址
DOI
10.1016/j.precisioneng.2024.04.002 doi
其它 期刊:Precision Engineering-journal of The International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology
作者:Pengfei Wu; Ning Liu; Xue Li; Yongwei Zhu; Pengfei Wu; et al
出版日期:2024-04-03
求助人
yuanjie 在 2026-01-19 16:17:39 发布自安徽,悬赏 10 积分
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