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标题
Charge Plasma Dopingless Device: Boosting High-Frequency Performance with Germanium and Hetero Dielectric Gate
电荷等离子体无掺杂器件：用锗和异质介质栅极提高高频性能
相关领域
锗 Boosting（机器学习） 电介质 等离子体 材料科学 光电子学 栅极电介质 锗化合物 电荷（物理） 电气工程 计算机科学 物理 工程类 晶体管 核物理学 电压 人工智能 硅 量子力学
网址
https://doi.org/10.1134/s1063782623600389
DOI
10.1134/s1063782623600389 doi
其它 期刊：Semiconductors
作者：Jyotsana Singh; R. K. Chauhan
出版日期：2024-09-01
求助人
gang 在 2025-12-09 20:19:05 发布自北京，悬赏 10 积分
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