| 标题 |
Patterning chemistry of HafSOx resist |
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| DOI |
10.1117/12.2046605
doi
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期刊:SPIE Proceedings 作者:Jenn M. Amador; Shawn R. Decker; Stefan E. Lucchini; Rose E. Ruther; Douglas A. Keszler 出版日期:2014-03-27 |
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(2025-6-4)