| 标题 |
 Progress of PFAS-free materials and resist for ArF immersion photolithography 相关领域
抵抗
材料科学
光刻
沉浸式（数学）
浸没式光刻
纳米技术
光电子学
平版印刷术
光刻胶
制作
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| DOI |
10.1117/12.3089554
doi
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| 其它 |
期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XLIII 作者：Yuzuru Kaneko; Takashi Masubuchi; Keito Hagiwara; Junya Kanda; Haowei Feng; et al 出版日期：2026-04-09 |
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