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 Characterization of plasma-induced damage on TiN/HfO 2 /SiO 2 stacked structure during multi-Vt process for advanced CMOS using different dry etching gas chemistry 相关领域
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：H. Hirabayashi; Kiyohiko Sato; Naoyuki Kofuji; Satoshi Sakai; Miyako Matsui; et al 出版日期：2026-03-03 |
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