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Effect of Novel pH Regulators on Copper film Chemical Mechanical Polishing for Ruthenium-Based Copper Interconnect under Weak Alkalinity Conditions
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网址
https://doi.org/10.1149/2162-8777/ad4679
DOI
10.1149/2162-8777/ad4679 doi
其它 期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology
作者：Changxin Dong; Xinhuan Niu; Jianghao Liu; Ni Zhan; Yida Zou; et al
出版日期：2024-05-01
求助人
博1242 在 2025-10-15 15:57:55 发布自天津，悬赏 10 积分
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