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 Model analysis of the feature profile evolution during Si etching in HBr-containing plasmas 含HBr等离子体中Si刻蚀过程特征轮廓演化的模型分析
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Masahito Mori; Shoki Irie; Yugo Osano; Koji Eriguchi; Kouichi Ono 出版日期：2021-05-14 |
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