Carbon in GaN as a nonradiative recombination center

重组 碳纤维 宽禁带半导体 材料科学 中心(范畴论) 光电子学 化学 结晶学 复合材料 基因 生物化学 复合数
作者
Fangzhou Zhao,Hongyi Guan,Mark E. Turiansky,Chris G. Van de Walle
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:126 (20)
标识
DOI:10.1063/5.0267877
摘要

Trap-assisted nonradiative recombination has been shown to limit the efficiency of optoelectronic devices. While substitutional carbon (CN) has been suggested to be a nonradiative recombination center in GaN devices, a complete recombination cycle including the two charge-state transition levels has not been previously described. In this work, we investigate the trap-assisted recombination process due to CN in GaN, including multiphonon emission, radiative recombination, trap-assisted Auger–Meitner (TAAM) recombination as well as thermal emission of holes. Our study shows the key role of TAAM processes at the high carrier densities relevant for devices. We also reveal the carrier-density regimes where thermal emission and radiative recombination are expected to play an observable role. Our results highlight that carbon concentrations exceeding ∼1017 cm−3 can have a noticeable impact on device efficiency, not just in GaN active layers but also in InGaN and AlGaN. Our comprehensive formalism not only offers detailed results for carbon but also provides a general framework for assessing the multiple processes that participate in trap-assisted recombination in semiconductors.
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