Effects of boron doping on the surface modification and defect evolution of silicon induced by proton implantation and annealing

退火(玻璃) 兴奋剂 材料科学 表面改性 离子注入 质子 纳米技术 冶金 光电子学 化学 物理化学 核物理学 离子 物理 有机化学
作者
Zeyuan Chen,Minghuan Cui,Jing‐Feng Li,Peng Jin,Yiqihui Lan,Xuexin Ren,Yushan Yang,Dongsheng Li,Tielong Shen,Zhiguang Wang
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:667: 160332-160332 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2024.160332
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