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作者
S. Horne,Paul A. Blackborow,Matthew M. Bensen,M. Partlow,Deborah Gustafson,Michael Goldstein
标识
DOI：10.1364/cleo_at.2013.jw1d.3
摘要
Mask inspection and validation are key elements of the EUV lithography infrastructure. Requirements for the light sources to enable these tools will be introduced, and one source described in detail. As the field develops, enhanced sources will be required; two will be described. Article not available.
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