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Silicon Oxynitride Layers Fabricated by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) for CMOS Devices
作者
Robert Mroczyński,
Romuald B. Beck
出处
期刊：
Meeting abstracts
[Institute of Physics]
日期：2009-07-20
卷期号：MA2009-02 (34): 2586-2586
链接
iop.org
doi.org
标识
DOI：10.1149/ma2009-02/34/2586
摘要
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