THIN FILM OF CERAMIC OXIDES BY MODIFIED CVD

陶瓷 材料科学 薄膜 复合材料 化学工程 纳米技术 工程类
作者
Jean‐Luc Deschanvres,François E. Cellier,G. Delabouglise,M. Labeau,M. Langlet,J.C. Joubert
出处
期刊:Journal de physique. Colloque [EDP Sciences]
卷期号:50 (C5): C5-705 被引量:3
标识
DOI:10.1051/jphyscol:1989582
摘要

Resume : Nous dkcrivons un procede de dkp6t utilisant la pyrolyse d'un aerosol gCnCrk par ultrasons (procede Pyrosol).La reaction chimique sur le substrat chauffk est de type CVD.Nous avons Ctudik les conditions expkrimentales de d6p6t de zircone stabiliske 21 l'oxyde &Yttrium, en w e de la rkalisation de microcapteurs de gaz.Nous obtenons directement la phase cubique de la zircone stabiliske.Comrne application en tant que mkdia pour l'enregistrement magnkto-optique nous avons obtenu des couches de Y3Fe5012 non onentkes pour des d6p6ts sur quartz et des couches 6pitaxiCes pour des depbts sur des substrats monocristallins de GGG.
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