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Degradation of metal/oxide/semiconductor structures by Fowler-Nordheim tunnelling injection

氧化物 材料科学 量子隧道 多晶硅 栅氧化层 半导体 金属 光电子学 图层(电子) 纳米技术 晶体管 复合材料 薄膜晶体管 冶金 电气工程 工程类 电压
作者
B. Balland,C. Plossu,Serge Bardy
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:148 (2): 149-162 被引量:26
标识
DOI:10.1016/0040-6090(87)90153-2
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