Reactive force-field-based molecular dynamics simulation of chemical mechanical polishing of silicon carbide in alcoholic environment

材料科学 分子动力学 碳化硅 抛光 力场(虚构) 雷亚克夫 化学机械平面化 领域(数学) 纳米技术 复合材料 计算化学 计算机科学 人工智能 化学 数学 纯数学 原子间势
作者
Ling Pan,Shiyang Tan,Changhao Wu,Yunhui Chen
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:200: 109963-109963
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2025.109963
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