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Insulating improper ferroelectric domain walls as robust barrier layer capacitors

材料科学 电介质 铁电性 凝聚态物理 介电常数 体积分数 电容器 电容 放松(心理学) 阻挡层 肖特基势垒 电场 相对介电常数 图层(电子) 电极 复合材料 光电子学 电压 化学 物理 二极管 物理化学 社会心理学 量子力学 心理学
作者
Lukas Puntigam,Jan Schultheiß,Ana Strinic,Z. Yan,Edith Bourret,Markus Altthaler,I. Kézsmárki,Donald M. Evans,Dennis Meier,S. Krohns
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:129 (7) 被引量:12
标识
DOI:10.1063/5.0038300
摘要

We report the dielectric properties of improper ferroelectric hexagonal (h-)ErMnO3. From the bulk characterization, we observe a temperature and frequency range with two distinct relaxation-like features, leading to high and even “colossal” values for the dielectric permittivity. One feature trivially originates from the formation of a Schottky barrier at the electrode–sample interface, whereas the second one relates to an internal barrier layer capacitance (BLC). The calculated volume fraction of the internal BLC (of 8%) is in good agreement with the observed volume fraction of insulating domain walls (DWs). While it is established that insulating DWs can give rise to high dielectric constants, studies typically focused on proper ferroelectrics where electric fields can remove the DWs. In h-ErMnO3, by contrast, the insulating DWs are topologically protected, facilitating operation under substantially higher electric fields. Our findings provide the basis for a conceptually new approach to engineer materials exhibiting colossal dielectric permittivities using domain walls in improper ferroelectrics.
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