Growth mechanism study of boron nitride atomic layer deposition by experiment and density functional theory

原子层沉积 氮化硼 化学 反应机理 密度泛函理论 基本反应 物理化学 分析化学(期刊) 图层(电子) 计算化学 有机化学 动力学 催化作用 物理 量子力学
作者
Naoya Uene,Takuya Mabuchi,Masaru Zaitsu,Yong Jin,Shigeo Yasuhara,Takashi Tokumasu
出处
期刊:Computational Materials Science [Elsevier BV]
卷期号:217: 111919-111919 被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.commatsci.2022.111919
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