Dynamics Contributions to the Growth Mechanism of Ga2O3 Thin Film and NWs Enabled by Ag Catalyst

薄膜 材料科学 纳米晶材料 纳米线 纳米技术 氧化剂 带隙 催化作用 氧化物 光电子学 化学工程 冶金 化学 生物化学 有机化学 工程类
作者
Badriyah Alhalaili,Ryan Bunk,Ruxandra Vidu,M. Saif Islam
出处
期刊:Nanomaterials [Multidisciplinary Digital Publishing Institute]
卷期号:9 (9): 1272-1272 被引量:13
标识
DOI:10.3390/nano9091272
摘要

In the last few years, interest in the use of gallium oxide (Ga2O3) as a semiconductor for high power/high temperature devices and UV nano-sensors has grown. Ga2O3 has an enormous band gap of 4.8 eV, which makes it well suited for applications in harsh environments. In this work, we explored the effect of Ag thin film as a catalyst to grow gallium oxide. The growth of gallium oxide thin film and nanowires can be achieved by heating and oxidizing pure gallium at high temperatures (~1000 °C) in the presence of trace amounts of oxygen. We present the results of structural, morphological, and elemental characterization of the β-Ga2O3 thin film and nanowires. In addition, we explore and compare the sensing properties of the β-Ga2O3 thin film and nanowires for UV detection. The proposed process can be optimized to a high scale production Ga2O3 nanocrystalline thin film and nanowires. By using Ag thin film as a catalyst, we can control the growth parameters to obtain either nanocrystalline thin film or nanowires.

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