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A reliability study of the PMMA/Al/UV5 bilayer process for ultra-short T shape gates

双层 异质结 材料科学 平版印刷术 光电子学 电子束光刻 可靠性（半导体） 产量（工程） 光学 纳米技术 图层（电子） 抵抗 化学 物理 功率（物理） 复合材料 膜 量子力学 生物化学
作者
Yuying Xie,Yifang Chen
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
日期：2022-05-01 卷期号：261: 111804-111804
标识
DOI：10.1016/j.mee.2022.111804
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