Multiscale computational fluid dynamics modelling of spatial atomic layer deposition processes: Application to chamber design and process control

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作者
Yunseok Kim,Seulwon Choi,Huichan Kang,Ho Jun Kim,Hwanyeol Park
出处
期刊:Surfaces and Interfaces [Elsevier BV]
卷期号:84: 108550-108550
标识
DOI:10.1016/j.surfin.2026.108550
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