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Selective epitaxial growth using dichlorosilane and silane by low pressure chemical vapor deposition

作者
W ZHANG
出处
期刊：Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
日期：2004-05-26 卷期号：73-74: 514-518 被引量：8
标识
DOI：10.1016/s0167-9317(04)00203-5
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