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A Cu/Ni/Cu/Sn1.8Ag microbump structure for void-free interface under long time high-temperature storage
空隙(复合材料)
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作者
Zheqi Xu,
Long Zhang,
Shimeng Xu,
Qian Wang,
Yong Wang,
Jian Cai
出处
期刊:
Journal of Alloys and Compounds
[Elsevier BV]
日期:2024-08-27
卷期号:1005: 176178-176178
被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.jallcom.2024.176178
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