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Study of low-temperature resistivity minimum and Hall Effect in pulsed laser deposited single crystalline titanium nitride (TiN) films

氮化钛锡材料科学电阻率和电导率霍尔效应氮化物脉冲激光器钛脉冲激光沉积激光器薄膜冶金光电子学复合材料纳米技术光学图层（电子）电气工程工程类物理

作者

Dhananjay Kumar,Rahul Ponnam,Nikhil Reddy Mucha,A. Kebede,A. K. Majumdar

出处

期刊：Bulletin of the American Physical Society 日期：2017-03-14 卷期号：2017 被引量：1

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