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Properties of Porous Silicon Films Formed by Metal-Assisted Chemical Etching Using Various Oxidants

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作者

N. N. Melnik,В. В. Трегулов,G. N. Skoptsova,О. А. Милованова

出处

期刊：Bulletin of the Lebedev Physics Institute [Pleiades Publishing]
日期：2021-12-01 卷期号：48 (12): 386-389

标识

DOI：10.3103/s1068335621120058

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