Vapour pressure measurement of zirconium chloride and hafnium chloride by the transpiration technique

汽化 四氯化物 化学 挥发 蒸汽压 氯化物 单体 卤化物 无机化学 蒸腾作用 分析化学(期刊) 硫黄 核化学 有机化学 聚合物 光合作用 生物化学
作者
R.P. Tangri,D.K. Bose
出处
期刊:Thermochimica Acta [Elsevier BV]
卷期号:244: 249-256 被引量:10
标识
DOI:10.1016/0040-6031(94)80224-6
摘要

Studies on the vaporization of pure zirconium tetrachloride and hafnium tetrachloride have been conducted in the temperature range 400–520 K by the transpiration technique, using high purity argon as the carrier gas. Chemical and X-ray diffraction analyses of the condensate and of the residue confirmed the vaporization to be congruent. Assuming the vaporising species to be monomeric, the vapour pressures were calculated, and are given by the following equations logp(Pa) = (13.51 ± 0.058) −(5164.95 ± 26.0)T (405.3 < T < 518.1 K) for 〈ZrCl4〉 ⇋ (ZrCl4) and logp(Pa) = (13.64 ± 0.147) −(5112.27 ± 63.4)T (398.4 < T < 500.3 K) for 〈HfCl4〉 ⇋ (HfCl4)
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