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Study of oxidation behaviour of Ruthenium thin film after thermal annealing in oxygen environment

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作者
Shruti Gupta,Mangalika Sinha,Rajnish Dhawan,Ravindra Jangir,A. Bose,Pankaj Gupta,Mukesh Kumar Swami,Mohammed H. Modi
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:764: 139606-139606 被引量:9
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2022.139606
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